[发明专利]图像感测元件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201010535484.1 申请日: 2010-11-04
公开(公告)号: CN102237383A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 庄俊杰;杨敦年;杜友伦;刘人诚;周耕宇;王从建 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明实施例提供一种图像感测元件及其制作方法,该元件包括:一基底,具有一前侧及一背侧;一光线感测元件,形成于该基底中,该光线感测元件用以检测通过该背侧进入该基底的一光波;以及一再结晶硅层,形成于该基底的该背侧上,该再结晶硅层具有与该基底的光激发荧光强度不同的光激发荧光强度。本发明可减少暗电流及白像素。
搜索关键词: 图像 元件 及其 制作方法
【主权项】:
一种图像感测元件,包括:一基底,具有一前侧及一背侧;一光线感测元件,形成于该基底中,该光线感测元件用以检测通过该背侧进入该基底的一光波;以及一再结晶硅层,形成于该基底的该背侧上,该再结晶硅层具有与该基底的光激发荧光强度不同的光激发荧光强度。
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