[发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置在审
申请号: | 201010535702.1 | 申请日: | 2010-10-29 |
公开(公告)号: | CN102049105A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 岩田高明 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10;G21K5/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置,其目的在于消除因驱动脊形过滤器而带来的噪音,不会对患者造成不愉快或不安的感觉,并可达到与利用专利文献2的装置可得到的照射剂量分布相同的、均匀的照射剂量分布。本发明包括具有损耗能量因带电粒子束(1)通过的位置而不同的厚度分布的脊形过滤器(6)、将带电粒子束(1)偏转的偏转器(2)、以及控制偏转器(2)以使得带电粒子束(1)通过脊形过滤器(6)的所述厚度分布的控制器。 | ||
搜索关键词: | 粒子 射线 照射 装置 治疗 | ||
【主权项】:
一种粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置将通过加速器加速后的带电粒子束照射到照射目标上,其特征在于,包括:脊形过滤器,该脊形过滤器具有损耗能量因所述带电粒子束通过的位置而不同的厚度分布;将所述带电粒子束偏转的偏转器;以及控制器,该控制器控制所述偏转器以使得所述带电粒子束通过所述脊形过滤器的所述厚度分布。
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