[发明专利]一种高真空陶瓷LCC封装方法有效

专利信息
申请号: 201010538418.X 申请日: 2010-11-09
公开(公告)号: CN102040186A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 杨军;郑辛;王登顺;丁凯;安泰;余凯;章敏明 申请(专利权)人: 北京自动化控制设备研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高尚梅
地址: 100074 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于MEMS器件封装技术领域,具体涉及一种高真空陶瓷LCC封装方法。按照本方法所述步骤依次经过等离子清洗、共晶贴片、引线互连、吸气剂激活和共晶封接完成封装的MEMS器件满足如下要求:封装腔体内的真空度小于1Pa,保存期限大于等于15年,实现了硅微陀螺Q值约为15万的封装。通过采用等离子清洗方法,提高了封装质量,降低了封装体的整体漏率,即外漏问题;通过选用与封接焊料相同的贴片焊料进行共晶的方法进行贴片,减少了封装体内部材料的放气量;通过吸气剂激活,可有效吸附封装体内释放的少量气体,保证了封装体内的较好真空度。
搜索关键词: 一种 真空 陶瓷 lcc 封装 方法
【主权项】:
一种高真空陶瓷LCC封装方法,其特征在于步骤依次如下:(1)对待封装零件进行等离子清洗;(2)共晶贴片,把微结构芯片(5)贴装至陶瓷LCC(3)上;(3)引线互连,将微结构芯片(5)与陶瓷LCC(3)电气连接;(4)将吸气剂(4)激活;(5)共晶封接,把密封盖板(1)与陶瓷LCC(3)封接在一起。
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