[发明专利]用氩等离子体处理金属表面方法无效
| 申请号： | 201010540251.0 | 申请日： | 2010-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN101974298A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 吴晓京;刘立龙;张昕;卢茜;朱玮;周乾飞;杜晓琴 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C09J5/02 | 分类号： | C09J5/02;H01L21/56;H05H1/30;C23C8/36 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于电子封装技术领域，具体为一种用氩等离子体处理金属表面方法。该方法是利用等离子体浸没式离子注入法对待处理件进行表面处理，其中所述等离子体为氩等离子体，所述的待处理件为金属或镀有该金属的制品。本发明还提供用所述方法得到的经表面处理的金属和镀有该经表面处理的金属的制品，以及它们作为引线框架材料的应用。本发明利用氩等离子体处理镍金属的表面，经过处理的镍金属的表面与环氧树脂的粘附性能得到大幅提高，从而使以镍金属作为引线框架材料或者在表面镀镍的引线框架材料的稳定性以及防潮性能得到提高，且该方法操作流程简单，成本低廉且易于控制，不会出现热氧化方法存在的可重复性差的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 金属表面 方法 | ||
【主权项】：
一种金属表面处理方法，其特征在于具体步骤为：利用等离子体浸没式离子注入法对待处理件进行表面处理，所述的等离子体为氩等离子体，所述的待处理件为金属或镀有该金属的制品。
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