[发明专利]折射率分布测量方法和折射率分布测量装置

摘要

本发明公开了折射率分布测量方法和折射率分布测量装置，该方法包括将被检物(40)置于折射率比被检物的折射率低的第一和第二介质中并使基准光(21)入射到被检物上以测量第一和第二透射波前的第一和第二步骤。当入射到被检物的周边部分上并穿过被检物的同一点的光线被定义为第一和第二光线时，该方法使得这些光线沿相互不同的方向行进以改变基准光的NA，使得透过被检物之后的基准光比入射到被检物之前的基准光更接近于准直光。该方法使用被检物的几何厚度计算被检物的有效厚度，并通过使用第一和第二透射波前以及有效厚度计算其折射率分布。

主权项

一种折射率分布测量方法，包括：第一测量步骤，用于将被检物置于第一介质中并使基准光入射到所述被检物以测量所述被检物的第一透射波前，所述第一介质的折射率低于所述被检物的折射率；第二测量步骤，用于将所述被检物置于第二介质中并使基准光入射到所述被检物以测量所述被检物的第二透射波前，所述第二介质的折射率比所述被检物的折射率低并且与所述第一介质的折射率不同；以及计算步骤，用于计算所述被检物的内部折射率分布，其特征在于，当在所述第一测量步骤中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述被检物的远离所述被检物的位于光轴上的中心部分的周边部分并穿过所述被检物的某一点的光线被定义为第一光线，并且在所述第二测量步骤中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述周边部分并穿过所述某一点的光线被定义为第二光线时，在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中，所述方法使得所述第一光线和所述第二光线沿相互不同的方向行进，以改变所述基准光的数值孔径，使得与入射到所述被检物之前的基准光相比，透过所述被检物之后的基准光更接近于准直光，并且，其特征在于，在所述计算步骤中，所述方法通过使用所述被检物的分别沿所述第一光线和所述第二光线的几何厚度计算所述被检物的有效厚度，并通过使用在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中测量的所述第一透射波前和所述第二透射波前以及计算的所述有效厚度计算内部折射率分布。