[发明专利]利用冗余图形填充来调整芯片图形密度的方法

摘要

本发明公开了一种利用冗余图形填充来调整芯片图形密度的方法，包括如下步骤：得到芯片制备中某个图层的可填充区域；预设一组图形密度不等的填充图形；等分为多个小块区域，设定在填充后图层的图形密度，小块区域的最小图形密度值、最大图形密度值和相邻两个小块区域间的最大图形密度差值；计算上述各小块区域初始的图形密度值；计算填入的图形密度最大的填充图形后的小块区域的图形密度值；采用虚拟图形填充的方法调整每个小块区域的图形密度；对各小块区域中的可填充区域进行填充，使填充后小块区域的图形密度值与步骤(6)所调整出的图形密度值最接近。本发明的方法，改善了填充后的局部区域图形密度的均一性。

主权项

一种利用冗余图形填充来调整芯片图形密度的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)根据填充规则，得到芯片制备中某个图层的可填充区域；(2)预设一组图形密度不等的填充图形；(3)将所述图层等分为多个小块区域，根据工艺要求，设定在填充完成后所述图层的图形密度要求，所述小块区域的最小图形密度值、最大图形密度值和相邻两个小块区域间的最大图形密度差值(GRA)；(4)计算上述各小块区域初始的图形密度值(CD0)；(5)计算在上述各小块区域的可填充区域中，填入步骤(2)中所设定的图形密度最大的填充图形后的小块区域的图形密度值(CM)；(6)根据步骤(4)中计算的各小块区域的图形密度值(CD0)、步骤(5)中计算的各小块区域的图形密度值(CM)以及两者的之间的图形密度差值，采用虚拟图形填充的方法依次调整每个小块区域的图形密度，使前后两次调整后各小块区域的图形密度的差值小于预定数值，且整个图层最终图形密度在步骤(3)所设定的范围内；(7)用步骤(2)中预设的填充图形，对各小块区域中的可填充区域进行填充，使填充后小块区域的图形密度值与步骤(6)所调整出的图形密度值最接近。