[发明专利]基板的制作方法及半导体芯片的封装方法无效

专利信息
申请号: 201010546040.8 申请日: 2010-11-15
公开(公告)号: CN102468186A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 吴小龙;吴梅珠;刘秋华;徐杰栋;刘晓阳;胡广群;毛少昊;邵鸣达 申请(专利权)人: 无锡江南计算技术研究所
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;C25D3/38;C25D5/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 214083 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种基板的制作方法和芯片封装方法,该方法包括:提供形成有籽晶层的基板;在所述籽晶层上形成第一绝缘掩膜层,所述第一绝缘掩膜层内形成有多个第一开口,所述第一开口露出籽晶层;在所述第一开口形成基板焊盘;在所述基板焊盘和第一绝缘掩膜层上形成第二绝缘掩膜层,所述第二绝缘掩膜层内形成有多个第二开口,所述第二开口的位置与基板焊盘的位置对应;进行电镀沉积工艺,在所述第二开口内形成导电凸块;去除所述第一掩膜绝缘层和第二掩膜绝缘层;去除未被所述基板焊盘覆盖的籽晶层;形成覆盖所述基板焊盘、剩余的籽晶层的绝缘介质层,所述绝缘介质层与所述导电凸块齐平。本发明提高了基板上金属凸块的共面性和封装后芯片的良率。
搜索关键词: 制作方法 半导体 芯片 封装 方法
【主权项】:
一种基板的制作方法,其特征在于,包括:提供基板,所述基板上形成有籽晶层;在所述籽晶层上形成第一绝缘掩膜层,所述第一绝缘掩膜层内形成有多个第一开口,所述第一开口露出籽晶层;在所述第一开口内形成基板焊盘;在所述基板焊盘和第一绝缘掩膜层上形成第二绝缘掩膜层,所述第二绝缘掩膜层内形成有多个第二开口,所述第二开口的位置与基板焊盘的位置对应;进行电镀沉积工艺,在所述第二开口内形成导电凸块;去除所述第一掩膜绝缘层和第二掩膜绝缘层;去除未被所述基板焊盘覆盖的籽晶层;形成覆盖所述基板焊盘、剩余的籽晶层的绝缘介质层,所述绝缘介质层与所述导电凸块齐平。
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