[发明专利]二氧化硅颗粒及其制造方法有效
| 申请号： | 201010546805.8 | 申请日： | 2010-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN102295292A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 钱谷优香;吉川英昭;奥野広良;野崎骏介;川岛信一郎;竹内荣 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及二氧化硅颗粒及其制造方法。本发明提供一种二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒包含一次颗粒，所述一次颗粒的体积平均粒径为80nm～300nm、粒径分布指数为1.10～1.40、平均圆形度为0.70～0.92且圆形度分布指数为1.05～1.50，所述二氧化硅颗粒包含的圆形度为0.95以上的一次颗粒的比例以颗粒数计为10％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 颗粒 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒包含一次颗粒，所述一次颗粒的体积平均粒径为80nm～300nm、粒径分布指数为1.10～1.40、平均圆形度为0.70～0.92且圆形度分布指数为1.05～1.50，所述二氧化硅颗粒包含的圆形度为0.95以上的一次颗粒的比例以颗粒数计为10％以下。
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