[发明专利]光吸收层的制造方法及应用其的太阳能电池结构体有效

专利信息
申请号: 201010549000.9 申请日: 2010-11-18
公开(公告)号: CN102468367A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 廖曰淳;黄渼雯;陈彦至 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0264;H01L31/04;C01B19/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种光吸收层的制造方法,包括以下之步骤:湿式涂布调控前驱物于底层前驱物上,调控前驱物的能隙系大于底层前驱物的能隙。调控前驱物系为I-III-VI族化合物,且I-III-VI族化合物的组成范围系为Cua(In1-b-cGabAlc)(Se1-dSd)2,0<a,0≤b≤1,0≤c≤1,0<b+c≤1,且0≤d≤1。接着,进行热处理,使得底层前驱物及调控前驱物形成光吸收层。
搜索关键词: 光吸收 制造 方法 应用 太阳能电池 结构
【主权项】:
一种光吸收层的制造方法,包括:湿式涂布调控前驱物于底层前驱物上,该调控前驱物的能隙大于该底层前驱物的能隙,该调控前驱物为I‑III‑VI族化合物,且该I‑III‑VI族化合物的组成范围为Cua(In1‑b‑cGabAlc)(Se1‑dSd)2,0<a,0≤b≤1,0≤c≤1,0<b+c≤1,且0≤d≤1;以及进行热处理,使得该底层前驱物及该调控前驱物形成光吸收层。
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