[发明专利]光刻方法和设备无效
| 申请号： | 201010551679.5 | 申请日： | 2010-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN102063019A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | M·阿柯斯塞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻方法和装置。所述光刻方法包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间-温度特性的信号的步骤，参考所述光学元件的一部分的想要的时间-温度特性来实施控制，所述信号的控制是使得实际的时间-温度特性的改变领先于想要的时间-温度特性的相关改变。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻方法，包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间‑温度特性的信号的步骤，所述信号的控制是使得实际的时间‑温度特性的改变领先于所述光学元件的所述部分的想要的时间‑温度特性的相关改变。
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