[发明专利]双重图形化方法无效
| 申请号： | 201010553698.1 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102466969A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 张海洋;孙武;张世谋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/09;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双重图形化方法，包括：分别提供基底和压印模具，所述基底上形成有第一光刻胶层，所述压印模具具有第一图形；使用所述压印模具对所述第一光刻胶层进行压印，将所述第一图形转移至所述第一光刻胶层；形成第二光刻胶层，覆盖所述压印后的第一光刻胶层；对所述第二光刻胶层进行图形化，定义出第二图形。本发明有利于改善图形化精度，减小图形的线宽，提高器件集成度。 | ||
| 搜索关键词： | 双重 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种双重图形化方法，其特征在于，包括：分别提供基底和压印模具，所述基底上形成有第一光刻胶层，所述压印模具具有第一图形；使用所述压印模具对所述第一光刻胶层进行压印，将所述第一图形转移至所述第一光刻胶层；形成第二光刻胶层，覆盖所述压印后的第一光刻胶层；对所述第二光刻胶层进行图形化，定义出第二图形。
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