[发明专利]化学机械抛光组合物及其相关方法有效
| 申请号： | 201010553984.8 | 申请日： | 2010-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN102061132A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 刘振东;郭毅;K-A·K·雷迪;G·张 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;周承泽 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
一种可以用于基材的化学机械抛光的化学机械抛光组合物，所述基材包含氧化硅材料和氮化硅材料；以及所述化学机械抛光组合物的制备和使用方法。所述化学机械抛光组合物包含以下物质作为初始组分：式I所示的第一物质和式II所示的第二物质中的至少一种；磨料；和水。 |
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| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 组合 及其 相关 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光组合物，其包含以下物质作为初始组分：式I的第一物质![]()
式中R1，R2，R3，R4，R5，R6和R7各自是化学式为-(CH2)n-的桥连基团，其中n是选自1-10的整数，任选地第一物质中的一个或多个氮可以以季氮形式提供，其中氮带正电荷；式II的第二物质![]()
其中R8，R9，R10，R11和R12选自氢和具有1-6个碳原子的烷基，其中任选地，R8，R9，R10，R11和R12中的两种或更多种结合成环状结构，任选地，所述第二物质中的一个或多个氮可以为季氮形式，其中氮带正电荷；磨料；和水。
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