[发明专利]新型光导出结构的制造方法无效
| 申请号： | 201010554521.3 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102468379A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 孙智江 | 申请（专利权）人： | 孙智江 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/58;H01L33/14 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张利强 |
| 地址： | 上海市黄浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种新型光导出结构的制造方法，其特点是包括以下步骤：首先，外延片表面形成浅槽隔离。接着，在浅槽隔离上沉积高折射率介质材料。然后，将高折射率介质材料平坦化。最后，控制介高折射率介质材料的形貌，将高折射率介质材料做成凸形透镜式样。由于采用了凸形透镜式样，会有更多的光逃逸。由此，对于角度大于临界角的光，通过改变其在传播过程中的介质分布以及介质形状的优化，可以将光导出去。同时这层介质可以充当电流阻隔层，提高器件的发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 导出 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
新型光导出结构的制造方法，其特征在于包括以下步骤：步骤①，外延片表面形成浅槽隔离；步骤②，在浅槽隔离上沉积高折射率介质材料；步骤③，将高折射率介质材料平坦化；步骤④，控制介高折射率介质材料的形貌，将高折射率介质材料做成凸形透镜式样。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙智江，未经孙智江许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010554521.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无线智能识别管理装置、系统及方法
- 下一篇：一种电机转子
