[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用有效
| 申请号： | 201010554731.2 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102464946A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;宋伟红;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于浅沟槽隔离抛光工艺的抛光液，它含有一种氧化铈磨料颗粒，一种去除速率选择比调节剂和一种阳离子表面活性剂，该抛光液具有较高的高密度二氧化硅(HDP-Oxide)的去除速率以及很高的对氮化硅的去除速率选择比，对图形晶圆的台阶具有较好的平坦化效率，且抛光后晶圆有好的表面形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，该抛光液包含一种氧化铈磨料颗粒，一种去除速率选择比调节剂，一种阳离子表面活性剂和水。
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