[发明专利]光学扫描装置和使用其的成像设备有效
申请号: | 201010556684.5 | 申请日: | 2008-05-04 |
公开(公告)号: | CN102062943A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 富冈雄一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12;G02B27/00;G03G15/01;G03G15/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 朱德强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光学扫描装置和使用其的成像设备,所述光学扫描装置构造成除去或充分减少重像光,并且包括将光束从光源引导到偏转装置的偏转表面的输入光学系统、和将由偏转表面扫描偏转的光束成像到被扫描表面上的成像光学系统,其中在副扫描截面中,光束相对于成像光学系统的光轴从倾斜方向入射到偏转装置的偏转表面上,其中阻挡重像光的遮光构件布置在偏转表面和被扫描表面之间的光路上,其中遮光构件在副扫描方向上的端部形成为在副扫描方向上具有高度的弯曲形状,所述高度按照在主扫描方向上的位置而变化。 | ||
搜索关键词: | 光学 扫描 装置 使用 成像 设备 | ||
【主权项】:
一种光学扫描装置,包括:光源装置;具有偏转表面的偏转装置;输入光学系统,其构造成将光束从所述光源装置引导到所述偏转装置的偏转表面;和成像光学系统,其构造成将由所述偏转装置的偏转表面扫描地偏转的光束成像到被扫描表面上;其中,在副扫描截面中,待入射到所述偏转装置的偏转表面上的光束相对于所述成像光学系统的光轴从倾斜方向入射到所述偏转表面上,其中构造成阻挡重像光的遮光构件布置在所述偏转表面和所述被扫描表面之间的光路上,其中,所述遮光构件的在副扫描方向上的端部形成有弯曲形状,所述弯曲形状在副扫描方向上的高度根据在主扫描方向上的位置而变化,其中,相对于与所述成像光学系统的光轴的交点,所述弯曲形状弯曲成使得在所述遮光构件在副扫描方向上的端部与垂直于所述偏转装置的转动轴线且包含入射到所述偏转装置的偏转表面上的光束的轴向偏转点的平面之间的间距随着沿主扫描方向向外远离所述光轴而增大,其中,所述遮光构件包括设有所述端部的上遮光构件(10aU)和在所述遮光构件的下端部处的下遮光构件(10aL),所述上遮光构件(10aU)和所述下遮光构件(10aL)与用于支撑所述成像光学系统的光学器件盒一体地成型,并且其中,所述上遮光构件(10aU)和所述下遮光构件(10aL)设置在沿所述成像光学系统的光轴方向偏离的相应位置处。
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