[发明专利]一种利用抛光生成结构型表面的方法有效
| 申请号： | 201010560985.5 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102479266A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张志辉;孔令豹;何丽婷;杜雪;李荣彬 | 申请（专利权）人： | 香港理工大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 郭伟刚 |
| 地址： | 中国香港*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用抛光生成结构型表面的方法，用户通过在抛光仿真系统中设定抛光参数，并通过抛光仿真系统模拟抛光生成结构型表面，所述抛光参数包括：抛光策略、表面设计参数、加工参数、抛光头参数、工件材料以及抛光液的配比；所述抛光仿真系统包括：输入模块、基于模型的仿真系统以及输出模块。本发明所述的利用抛光生成结构型表面的方法可处理含铁材料和难加工材料，具有生成更多不同结构型表面及纹理的能力，而这些表面纹理用其他加工方法不可能实现，使抛光过程更具可控性与可预测性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 抛光 生成 结构 表面 方法 | ||
【主权项】：
一种利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，用户通过在抛光仿真系统中设定抛光参数，并通过抛光仿真系统模拟抛光生成结构型表面，所述抛光参数包括：抛光策略、表面设计参数、加工参数、抛光头参数、工件材料以及抛光液的配比；所述抛光仿真系统包括：输入模块、基于模型的仿真系统以及输出模块。
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