[发明专利]用于处理基板的装置无效
| 申请号： | 201010567864.3 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102074445A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 宋明坤;李政洛;都在辙;全富一 | 申请（专利权）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;钟强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于处理基板的装置包括：通过腔室盖和腔室主体的组合来提供反应空间的处理室；在所述反应空间中的在其上放置基板的基座；在所述反应空间上方的多个等离子源电极；在所述腔室盖下方的多个第一下突出部分；以及与所述多个等离子源电极相对应的多个第一气体注入器，和与所述多个第一气体注入器交替地设置的多个第二气体注入器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种用于处理基板的装置，包括：通过腔室盖和腔室主体的组合来提供反应空间的处理室；在所述反应空间中的在其上放置基板的基座；在所述反应空间上方的多个等离子源电极；在所述腔室盖下方的多个第一下突出部分；和与所述多个等离子源电极相对应的多个第一气体注入器，和与所述多个第一气体注入器交替地设置的多个第二气体注入器。
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