[发明专利]一种硅片手指印去除方法及清洗方法

摘要

本发明公开了一种硅片手指印去除方法，包括步骤：1)采用纯水对硅片进行超声清洗；2)用丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡；3)挥发硅片表面的丙酮和酒精的混合溶液。本发明通过采用具有挥发性的丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡，使有机溶剂和有机脂类充分互溶，然后通过挥发掉丙酮和酒精的混合溶液，则可同时将互溶的有机脂带走，使得去除手指印的硅片效率提高0.18％。本发明在不影响正常工艺稳定和不增加工艺时间的基础上，最大限度地去除手指印，从而提高硅太阳电池的电性能，提高硅太阳电池的生产效率，并极大地降低色差片的比例。本发明还公开了包括上述硅片手指印去除方法步骤的硅片的清洗方法。

主权项

一种硅片手指印去除方法，其特征在于，包括步骤：1)采用纯水对硅片进行超声清洗；2)用丙酮和酒精的混合溶液对硅片进行浸泡；3)挥发硅片表面的丙酮和酒精的混合溶液。