[发明专利]等离子加工装置有效

专利信息
申请号: 201010571104.X 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102487572A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 陈金元;董家伟;杨飞云;于磊;宋晓宏 申请(专利权)人: 理想能源设备有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 英属维京群岛托*** 国省代码: 维尔京群岛;VG
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摘要: 发明提供了一种等离子加工装置,包括:真空腔室;等离子反应腔,位于所述真空腔室内,用于进行等离子加工工艺;射频功率源,用于向所述等离子反应腔提供射频信号;射频功率传输单元,用于将所述射频功率源提供的射频信号传输至所述真空腔室的等离子反应腔内,所述射频功率传输单元包括传输所述射频信号的传输线,以及用于屏蔽所述传输线的电磁场的外导体。本发明射频传输单元具有用于屏蔽传输线电磁场的外导体,能够有效避免射频信号在真空腔室内放电,因此具有较好的安全性以及较低的传输功率损耗。
搜索关键词: 等离子 加工 装置
【主权项】:
一种等离子加工装置,包括:真空腔室;等离子反应腔,位于所述真空腔室内,用于进行等离子加工工艺;射频功率源,用于向所述等离子反应腔提供射频信号;射频功率传输单元,用于将所述射频功率源提供的射频信号传输至所述真空腔室的等离子反应腔内,其特征在于,所述射频功率传输单元包括传输所述射频信号的传输线,以及用于屏蔽所述传输线的电磁场的外导体。
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