[发明专利]一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机有效

专利信息
申请号: 201010577650.4 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102485977A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 曹孜;石宇;李惠;李晨 申请(专利权)人: 有研半导体材料股份有限公司
主分类号: C30B33/10 分类号: C30B33/10
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 郭佩兰
地址: 100088*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机,它包括:储酸罐,清洗机箱体,箱体内设有供腐蚀或清洗硅锭、硅块、硅棒的清洗槽,箱体的上面板部位设有安全防护门,箱体的上部接抽风系统,还包括液体管路部分、水气枪部分,整台设备底部装有接液盘,在设备的底部装有活动脚轮。本设备通过带有升降功能的移动推车将装有硅锭的篮具放入酸洗槽(清洗槽)内,通过点接触按钮开关控制相应的泵、阀进行供酸、排酸,完成硅锭、硅块、硅棒的清洗腐蚀。本发明的优点是:将大直径单晶整根位错腐蚀,避免取样或者重复取样,并且可以准确的划分滑移和无滑移部分;储酸罐的结构可以使酸重复使用,减少了酸的使用量和排放量。
搜索关键词: 一种 用于 直径 单晶位错 腐蚀 清洗
【主权项】:
一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机,其特征在于:它包括:储酸罐,清洗机箱体,箱体内设有供腐蚀或清洗硅锭、硅块、硅棒用的清洗槽,箱体的上部面板部位设有安全防护门,箱体的上部设接抽风系统的接口,还包括液体管路部分、水气枪部分,在设备的底部装有活动脚轮。
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