[发明专利]光刻机曝光方法有效
| 申请号： | 201010578044.4 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102540731A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光刻机曝光方法，用于扫描步进光刻机，其中，包括以下步骤：第一步、将狭缝状镜头沿光刻版载物台和圆片载物台的扫描方向倾斜一定角度，使得通过狭缝状镜头投影到圆片上的光线的焦距是递变的；第二步、扫描所述光刻版载物平台和所述圆片载物平台进行曝光。与现有技术相比，本发明的有益效果是：只完成一次曝光，即可相当于常规的多焦距重复曝光，方便快捷；且焦距范围是连续线形变化，在焦深范围内，曝光图形对比度更加均匀，可以获得更大的工艺窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机曝光方法，用于扫描步进光刻机，其特征在于，包括以下步骤：第一步、将狭缝状镜头沿光刻版载物台和圆片载物台的扫描方向倾斜一角度，使得通过狭缝状镜头投影到圆片上的光线的焦距是递变的；第二步、扫描所述光刻版载物平台和所述圆片载物平台进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华润上华科技有限公司，未经无锡华润上华科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010578044.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：自对准P+浅结掺杂工艺方法
- 下一篇：电子纸及其基板
