[发明专利]套刻标记有效
申请号: | 201010578054.8 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN102543954A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 黄玮 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;G03F9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种套刻标记,在至少两个光刻层次生成,其中,每个光刻层次的套刻标记均是由等间距放置的正方形或在水平方向和垂直方向设有对称长边的正多边形组成的nxn阵列,且同一光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸相等,不同光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸不同,所述n为大于等于3的奇数。与现有技术相比,本发明的有益效果是:成本较低、操作简单、方便读取、不易产生误判断。 | ||
搜索关键词: | 标记 | ||
【主权项】:
一种套刻标记,在至少两个光刻层次生成,其特征在于:每个光刻层次的套刻标记均是由等间距放置的正方形或在水平方向和垂直方向设有对称长边的正多边形组成的nxn阵列,且同一光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸相等,不同光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸不同,所述n为大于等于3的奇数。
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