[发明专利]等离子体工艺视窗元件与等离子体设备的工艺观测装置无效
| 申请号： | 201010582664.5 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102465278A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 杜陈忠;梁沐旺;林冠宇;魏大钦 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子体制作工艺视窗元件与等离子体设备的制作工艺观测装置。等离子体设备的制作工艺观测装置包括视窗元件与视窗玻璃。视窗元件包括第一基材部分、第二基材部分以及连接部分。第一基材部分具有第一通孔。第二基材部分具有第二通孔与第二通孔扩散空间。第二通孔扩散空间的截面积大于第二通孔的截面积。连接部分介于第一基材部分与第二基材部分之间。视窗元件设置在等离子体设备的反应腔体与视窗玻璃之间。第二通孔扩散空间邻近视窗玻璃。第一通孔邻近反应腔体。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 工艺 视窗 元件 设备 观测 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体制作工艺视窗元件，包括：第一基材部分，具有第一通孔；第二基材部分，具有第二通孔与第二通孔扩散空间，该第二通孔扩散空间的截面积大于该第二通孔的截面积；以及连接部分，介于该第一基材部分与该第二基材部分之间。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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