[发明专利]摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜的制造方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201010583629.5 申请日: 2010-12-08
公开(公告)号: CN102087442A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 村上大;伊藤秀知 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13363;G02B5/30;B29C67/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张楠;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种能够高效地除去在摩擦处理中产生的尘埃且通过谋求延长摩擦辊的寿命来提高生产率的摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜及其制造装置。该摩擦处理装置具备:在周面上粘贴有摩擦布(28)的摩擦辊(16);用于除去附着在摩擦布(28)上的尘埃的辊状的刷子(26);和对由摩擦布(28)除去的尘埃进行排气的尘埃排气装置(34)。
搜索关键词: 摩擦 处理 方法 装置 光学 补偿 制造 及其
【主权项】:
一种摩擦处理方法,其特征在于,其包括下述工序:取向膜形成工序,使具备取向膜形成材料层的长条挠性薄膜沿着其长度方向移动,同时使粘贴在摩擦辊上的摩擦布以旋转的状态与该取向膜形成材料层的表面接触,从而形成取向膜;摩擦布除尘工序,上述摩擦布与上述长条挠性薄膜接触之后,使辊状的刷子与上述摩擦布的表面接触,从而除去附着在上述摩擦布上的尘埃;和尘埃排气工序,对在上述摩擦布尘埃除去工序中被除去了的尘埃进行排气除去。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010583629.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top