[发明专利]一种投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201010585454.1 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102540415A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有正光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；一具有正光焦度的第四透镜组G14；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15，五个透镜组，构成2x放大倍率设计。使用I线设计，±5nm的I线带宽，保证了足够的曝光光强。校正大视场范围内的场曲、畸变、色差，并实现物像空间的双远心。像方工作距大于100mm，为整机空间布置留有余量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有正光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；所述第三透镜组G13内包含一孔径光阑AS；一具有正光焦度的第四透镜组G14；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：0.2＜|fG12/fG11|＜0.50.75＜|fG13/fG14|＜1.20.1＜|fG12/L|＜0.30.19＜|fG15/L|＜0.58其中：fG11：所述第一透镜组G11的焦距；fG12：所述第二透镜组G12的焦距；fG13：所述第三透镜组G13的焦距；fG14：所述第四透镜组G14的焦距；fG15：所述第五透镜组G15的焦距；L：从物面到像面的距离。
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