[发明专利]大视场大工作距投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201010585462.6 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102540416A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：具有正光焦度的第一透镜组G11；具有负光焦度的第二透镜组G12；具有正光焦度的第三透镜组G13；具有负光焦度的第四透镜组G14；以及具有正光焦度的第五透镜组G15。上述五个透镜组，使用I线设计，完成2x放大倍率设计，半视场大小100mm，±5nm的I线带宽，保证了足够的曝光光强。同时，物方工作距及像方工作距均大于130mm，为整机空间布置留有足够余量。 | ||
| 搜索关键词： | 视场 工作 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：具有正光焦度的第一透镜组G11；具有负光焦度的第二透镜组G12；具有正光焦度的第三透镜组G13；具有负光焦度的第四透镜组G14；以及具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组G11、G12、G13、G14、G15满足以下关系：0.52＜|fG11/fG13|＜0.85 (1)0.50＜|fG12/fG14|＜0.85 (2)0.19＜|fG13/L|＜0.33 (3)其中：fG11：第一透镜组G11的焦距；fG12：第二透镜组G12的焦距；fG13：第三透镜组G13的焦距；fG14：第四透镜组G14的焦距；L：从物面到像面的距离。
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