[发明专利]曝光头及其制造方法、盒以及图像形成装置有效
| 申请号： | 201010586205.4 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102213929A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 西野洋平;米山博人;松村贵志;山口义纪;真下清和;佐藤克洋 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;汤俏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光头及其制造方法、盒以及图像形成装置。本发明提供的曝光头包括：发光单元；成像单元，该成像单元允许来自所述发光单元的光通过入射面入射并且从出射面出射，由此在预定位置成像；以及透明层，该透明层设置在所述发光单元和所述成像单元之间，同时与所述发光单元和所述成像单元中的每一个接触；所述透明层具有的厚度使得所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的光学距离为所述成像单元的工作距离。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 及其 制造 方法 以及 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光头，该曝光头包括：发光单元；成像单元，该成像单元允许来自所述发光单元的光通过入射面入射并且从出射面出射，由此在预定位置成像；以及透明层，该透明层设置在所述发光单元和所述成像单元之间，并且与所述发光单元和所述成像单元中的每一个接触；所述透明层具有的厚度使得所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的光学距离为所述成像单元的工作距离。
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