[发明专利]光刻机的垂向控制装置及方法有效

专利信息
申请号: 201010592409.9 申请日: 2010-12-16
公开(公告)号: CN102566287A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 王献英;毛方林;段立峰 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种光刻机的垂向控制方法,包括如下步骤:a.由调焦调平传感器测量初始位置下基底上的测量点的位置信息,由垂向测量传感器测量初始位置下工件台的位置信息;b.根据上述位置信息计算得到将基底上的测量点调节至目标平面内的垂向设定值;c.以所述垂向设定值为闭环控制的输入值,以垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值,对工件台的位置进行闭环控制,从而将基底上的测量点调到目标平面。根据本发明的垂向控制方法,调焦调平传感器无需参与到闭环控制中,可大大节省时间并降低闭环机制的复杂度。
搜索关键词: 光刻 控制 装置 方法
【主权项】:
一种光刻机的垂向控制装置,用于对工件台进行垂向移位,使所述工件台承载的基底上的测量点移动至一目标平面内,其特征在于,所述垂向控制装置包括调焦调平传感器、垂向测量传感器、控制单元及执行机构,其中,所述调焦调平传感器测量初始位置下所述基底上的测量点的位置信息,作为调焦调平传感器初始测量值输出至所述控制单元;所述垂向测量传感器测量初始位置下所述工件台的位置信息,作为垂向传感器初始测量值输出至所述控制单元;所述控制单元根据所述调焦调平传感器初始测量值和所述垂向传感器初始测量值,计算得到将所述基底上的测量点调节至所述目标平面内的垂向设定值;所述控制单元以所述垂向设定值作为闭环控制的输入值,以所述垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下所述工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值,经由所述执行机构对所述工件台的位置进行所述闭环控制,从而将所述测量点调节到所述目标平面内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010592409.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top