[发明专利]蚀刻设备有效
| 申请号： | 201010593413.7 | 申请日： | 2010-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102092955A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 张锡唱;金昌树;咸允植 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;王青芝 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻设备，该蚀刻设备包括：多个室，具有敞开的以使基底进入或排出基底的开口；喷射构件，安装在每个室的内部以喷射化学液体；阻截构件，邻近地安装在每个室的开口处并抽吸进入开口中的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
一种蚀刻设备，所述蚀刻设备包括：多个室，每个室具有敞开的以使基底进入或排出基底的开口；喷射构件，安装在多个室中的每个室的内部以喷射化学液体；阻截构件，邻近地安装在多个室中的每个室的开口处并抽吸进入到多个室中的每个室的开口中的气体。
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