[发明专利]一种用于冷轧NiW合金基带EBSD分析的电解抛光方法有效
| 申请号： | 201010595241.7 | 申请日： | 2010-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN102051666A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 田辉;索红莉;高忙忙;马麟;刘敏;王毅;王营霞;袁冬梅;邱火勤;王金华;王建宏 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25F3/26 | 分类号： | C25F3/26 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 沈波 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于冷轧NiW合金基带EBSD分析的电解抛光方法，属于电解抛光技术领域，包括以下步骤：冷轧NiW合金基带表面或截面的机械抛光；将机械抛光好的表面或截面电解抛光，电解液HClO4、CH3COOH和C2H5OH以体积比为1∶3∶4，阴极材料为304不锈钢，电解抛光直流电电压为12V，电解抛光温度为15～30℃，电解抛光时间为20～45s，并且电解抛光时将电解抛光液至于磁力搅拌器上中速搅拌。本发明简单实用，能够重复制备出EBSD分析中具有强烈菊池花样的冷轧NiW合金基带表面或截面样品，以满足冷轧NiW合金基带的冷轧织构和再结晶形核等的研究。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 冷轧 niw 合金 基带 ebsd 分析 电解 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种用于冷轧NiW合金基带EBSD分析的电解抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)冷轧NiW合金基带表面或截面的机械抛光将需要进行EBSD分析的表面或截面进行机械抛光，待测样品依次经过200#，400#，600#，800#，1500#的水磨砂纸抛磨后，再用金刚砂抛磨膏进行机械抛光；(2)电解抛光液的配置将HClO4、CH3COOH和C2H5OH以体积比为1∶3∶4的比例进行混合，得到电解抛光液；(3)冷轧NiW合金基带表面或截面的电解抛光将机械抛光好的表面或截面进行电解抛光，阴极材料为304不锈钢，电解抛光直流电电压为12V，电解抛光温度为15～30℃，电解抛光时间为20～45s，并且电解抛光时将电解抛光液至于磁力搅拌器上中速搅拌。
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