[发明专利]一种In2Se3纳米材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010599420.8 申请日: 2010-12-21
公开(公告)号: CN102534800A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 孙旭辉;李洋 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B23/00;C23C14/06;C23C14/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 常亮;李辰
地址: 215123 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种In2Se3纳米材料的制备方法,包括:将气相In2Se3用载气输送到含有催化剂的基体上,并在所述基体上沉积生长得到In2Se3纳米材料;所述催化剂为金颗粒、金膜或铟膜。本发明使用气相沉积法将气相In2Se3沉积在基体上,在催化剂的催化作用下生长成纳米棒或纳米线,而且控制载气的种类可以控制纳米线的晶相,在氩气、氮气或氦气中沉积生长可以制备主晶相为κ相的In2Se3纳米线,在氢气中沉积生长可以制备α相In2Se3纳米线,制备的纳米线晶相均一,直径均匀,提高了In2Se3纳米线和纳米棒的密度,使In2Se3纳米材料的性能更好。
搜索关键词: 一种 in sub se 纳米 材料 制备 方法
【主权项】:
一种In2Se3纳米材料的制备方法,其特征在于,包括:将气相In2Se3用载气输送到含有催化剂的基体上,并在所述基体上沉积生长得到In2Se3纳米材料;所述催化剂为金颗粒、金膜或铟膜。
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