[发明专利]一种超低损耗腔镜的镀膜工艺无效
| 申请号： | 201010601207.6 | 申请日： | 2010-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102115873A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 吴先云 | 申请（专利权）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种超低损耗腔镜的镀膜工艺。传统的离子束辅助沉积镀膜方式镀制的腔镜，损耗较大，其损耗一般在500ppm以上，本发明采用双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗工艺，镀后进行适当的退火处理，得到非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜，从而提高激光腔镜的反射率，反射率小于20ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 损耗 镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
一种超低损耗腔镜的镀膜工艺，其特征在于采用双离子束溅射方式，镀制前使用超声波清洗。
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