[发明专利]一种PLC光器件的制造方法无效
| 申请号： | 201010604199.0 | 申请日： | 2010-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102540336A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 王鹏飞;刘磊;刘伟 | 申请（专利权）人： | 苏州东微半导体有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于平面光分路器(Planar Lightwave Circuit Splitter，PLC splitter)技术领域，具体涉及一种光波导的制造方法，包括：在硅片上生长一层二氧化硅；淀积光刻胶；光刻形成图形；在光刻胶之间的凹槽内形成高折射率的光波导芯层；剥除光刻胶；形成低折射率膜上包层。本发明所提出的光波导的制造方法工艺过程简单，技术难度低，原材料以及生产设备要求低，降低了生产成本，易于实现产业化规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 plc 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光波导器件的制造方法，包括：提供一个硅衬底；在所述硅衬底上生长一层二氧化硅；淀积光刻胶；光刻形成图形；形成高折射率层；回刻部分所述高折射率层，将光刻胶上的所述高折射率层去除而保留在光刻胶之间的凹槽内的所述高折射率层材料，以形成高折射率芯层；剥除光刻胶；形成低折射率膜上包层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州东微半导体有限公司，未经苏州东微半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010604199.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
