[发明专利]X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法有效
申请号: | 201010604338.X | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN102128851A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 刘海东 | 申请(专利权)人: | 沈阳飞机工业(集团)有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人: | 窦久鹏 |
地址: | 110034 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法,其步骤如下:1)Y元素YKa谱线和X元素XLa谱线重叠,Y元素YKa谱线真实强度 I1Y=IY测-I1X;2)选取含Y元素不含X元素标准样品,根据Y元素百分含量Wi和测得Y元素真实荧光总强度Ii建立校准曲线,校准曲线公式: Wi=a×Ii+bY元素灵敏度 M=1/a;3)含Y元素和X元素标准样品,计算YKa位置XLa重叠荧光强度 I1X=K×IXKA=M×C谱线重叠校正系数K=IY测-M×C/IXKA;4)测得校正后Y元素谱线的荧光强度为真实强度 I1Y=IY测-K×IXKA.。优点:降低了生产试验成本,并简化谱线重叠强度校正方法。 | ||
搜索关键词: | 射线 荧光 光谱分析 重叠 校正 方法 | ||
【主权项】:
X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法,其步骤如下:1)、Y元素的YKa谱线和X元素的XLa谱线重叠,Y元素YKa谱线的真实强度 I1Y=IY测-I1X式中:I1Y-YKa位置Y元素的真实荧光强度 I1X-YKa位置XLa重叠的荧光强度IY测-YKa位置得Y元素的荧光总强度,包括重叠元素谱线的强度2)、选取含Y元素不含X元素的标准样品或生产中选取的样品,根据Y元素百分含量Wi和测得Y元素的真实荧光总强度Ii建立校准曲线,校准曲线公式 Wi=a×Ii+b式中:a-校准曲线斜率 b-常数Y元素灵敏度 M=1/ a式中:M-(kcps/%)是元素测量强度相对含量的变化率 3)、含Y元素和X元素的标准样品或生产中选取的样品,计算YKa位置XLa重叠的荧光强度 I1 X=K×IXKA式中:K-谱线重叠校正系数 K=I1 X/ IXKA依据公式 I1Y=IY测-I1X,IY测=I1Y+I1X 则K=IY测-I1Y/ IXKAI1Y的计算引入Y元素灵敏度M进行计算,I1Y=M×C C为样品中Y元素的百分含量谱线重叠校正系数K=(IY测-M×C)/ IXKA4)、将谱线重叠校正系数K代入校正程序中,同时重新测量Y元素YKa谱线和X元素XKa谱线荧光强度,测得校正后Y元素谱线的荧光强度为真实强度 I1Y=IY测-K×IXKA。
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