[发明专利]一种光刻机真空曝光装置有效
| 申请号： | 201010605511.8 | 申请日： | 2010-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102012642A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 邢薇;胡松;赵立新;徐文祥;胡淘;陈磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种光刻机真空曝光装置，包括：掩模台、掩模板、硅片、密封胶圈、承片台、两个气嘴、柔性铰链、升降台、第一气嘴和真空气嘴；掩模板放在掩模台上，硅片放在承片台上，密封胶圈套在承片台的外侧，承片台通过柔性铰链与升降台相连；掩摸台位于承片台上方，掩摸台上开有V形槽，承片台上开有V形槽，通过对在掩模台上的V形槽与承片台上的V形槽进行抽真空操作，使硅片与掩摸板有良好接触。能够使待曝光的硅片处于真空环境中，克服了其他气体对光刻产生的光折射或反射的影响，提高了硅片的光刻分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 真空 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻机真空曝光装置，其特征在于包括：掩模台(1)、掩模板(2)、硅片(3)、密封胶圈(4)、承片台(5)、两个气嘴(6)、柔性铰链(7)、升降台(8)、第一气嘴(9)和真空气嘴(10)；掩模板(2)放在掩模台(1)上，硅片(3)放在承片台(5)上，密封胶圈(4)套在承片台(5)的外侧，承片台(5)通过柔性铰链(7)与升降台(8)相连；掩摸台(1)位于承片台(5)上方，掩摸台(1)上开有V形槽(11)，承片台(5)上设有三个V形槽(121、122、123)，通过对在掩模台(1)上的V形槽(11)与承片台(5)上的V形槽(121、122、123)进行抽真空操作，使硅片(3)与掩摸板(2)有良好接触。
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