[发明专利]一种应用辉光放电质谱分析非导体材料的新方法有效

专利信息
申请号: 201010606816.0 申请日: 2010-12-27
公开(公告)号: CN102175754A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 钱荣 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: G01N27/68 分类号: G01N27/68
代理公司: 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人: 何葆芳
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种应用辉光放电质谱分析非导体材料的新方法,其包括如下具体步骤:a)将待分析的非导体材料加工成条状样品;b)清洗条状样品,烘干;c)将金属铟置入石英坩埚中,加热至熔融状态;d)使条状样品表面包覆一层金属铟膜;e)再次清洗条状样品,烘干;f)进行直流辉光放电质谱分析。使用本发明的分析方法:无需研磨样品,无需抛光,前处理简单,避免了污染;操作简便,大大减少了金属铟的使用量,降低了分析成本;放电与导体样品类似,容易稳定且信号稳定性好,信噪比(S/N)理想,缩短了分析时间和提高了分析效率;能适合块状或晶体材料的分析,普适性强,应用范围广;具有很好的放电稳定性以及分析重复性。
搜索关键词: 一种 应用 辉光 放电 谱分析 非导体 材料 新方法
【主权项】:
一种应用辉光放电质谱分析非导体材料的新方法,其特征在于,包括如下具体步骤:a)将待分析的非导体材料加工成条状样品;b)清洗条状样品,烘干;c)将金属铟置入石英坩埚中,加热至熔融状态;d)使条状样品表面包覆一层金属铟膜;e)再次清洗条状样品,烘干;f)进行直流辉光放电质谱(dc‑GD‑MS)分析。
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