[发明专利]硅锗酸铋混晶及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010608864.3 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102011187A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 徐家跃;申慧;张彦;周鼎;金敏;江国健;房永征 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B11/00;C30B11/14
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种硅锗酸铋混晶及其制备方法,属于单晶领域。硅锗酸铋混晶的分子式为Bi4Si3-xGexO12。其制备方法即以高纯Bi2O3、SiO2和GeO2为原料,经过充分研磨和预烧成多晶料;籽晶事先置于坩埚底部,将合成好的多晶料装入坩埚中,移至晶体生长炉内并控制温度1050-1150℃,固液界面温度梯度为20-50℃/cm,生长速度为0.2-0.5mm/h。本发明的硅锗酸铋混晶,原料成分可调且分布均匀,兼具硅酸铋和锗酸铋的闪烁性能,晶体尺寸较大;制备方法温场稳定、工艺设备简单;同时可以实现多根晶体同时生长,晶体生长效率高、生产成本低,适合于工业化生产。
搜索关键词: 硅锗酸铋混晶 及其 制备 方法
【主权项】:
一种新型硅锗酸铋混晶,其特征在于其分子式为Bi4Si3‑xGexO12,其中X的变化范围是0.01~2.99。
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