[发明专利]一种抛光垫修整方法有效
| 申请号： | 201010610236.9 | 申请日： | 2010-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102554788A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 邓武峰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/12 | 分类号： | B24B53/12 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光垫修整方法，通过修整器和抛光装置接入智能控制系统，进而能够实时监控修整器的修整扭矩和抛光的材料去除率，计算出修整参量(下压力、频率和位置)的偏差，反馈偏差信息并补偿修整器对抛光垫的修整偏差，进而调整修整器对抛光垫的修整并继续监控，形成循环操作。这种闭环控制模式提高了修整抛光垫的精确性，延长了抛光垫的使用寿命，增强了各种抛光工艺的稳定性，进一步降低工艺成本，提高工艺效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 修整 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光垫修整方法，其特征在于，包括：抛光装置及修整器接入智能控制系统，所述智能控制系统包括测算单元、控制单元以及反馈单元；所述控制单元设定修整器的目标修整扭矩，得到修整器的目标修整参量，开始修整器对抛光垫的修整；所述测算单元测得修整器的实时修整扭矩和抛光过程的实时材料去除率；所述测算单元依据所述实时修整扭矩和实时材料去除率计算得到修整器的修整参量偏差；所述反馈单元将所述修整参量偏差反馈到控制单元；所述控制单元补偿所述修整参量偏差得到修整器新的目标修整参量，更新修整器对抛光垫的修整；循环进行所述测算单元测得修整器的实时修整扭矩和抛光过程的实时材料去除率及以后的操作，直至抛光过程结束。
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