[发明专利]化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置无效
| 申请号： | 201010611738.3 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102554781A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 高慧莹;罗杨;孙振杰;陈学森 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号： | B24B51/00 | 分类号： | B24B51/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人： | 张贰群 |
| 地址： | 065201 河北省石家庄市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置，涉及晶圆化学机械抛光设备技术领域。主要具有超精密减压阀、电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸；加压汽缸通过超精密减压阀的控制来克服负载的自身重力；通过空气继电器的PID调节消除外界气源的波动；上位机控制的输出模拟量控制电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸的方法来实现抛光的恒定压力控制和压力大小连续可调。采用方法或装置，可有效减少压力波动造成的晶圆破损等现象，得到持续稳定、连续可调的抛光压力，提高晶片的表面抛光质量；该方法合理、原理独特、工艺性好；该装置结构简单，使用方便。特别适用于晶圆化学机械抛光设备的抛光压力控制。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 抛光 压力 控制 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光头抛光压力控制方法，其特征在于：加压汽缸通过超精密减压阀的控制来克服负载的自身重力；通过空气继电器的PID调节消除外界气源的波动；上位机控制的输出模拟量控制电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸的方法来实现抛光的恒定压力控制和压力大小连续可调。
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