[发明专利]一种固定研磨粒抛光垫清洗装置及清洗方法有效
| 申请号： | 201010613438.9 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102553849A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 陈枫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种固定研磨粒抛光垫清洗装置，包括：清洗装置主体；清洗液进液口，位于装置主体末端；与清洗液进液口连通的清洗液喷射口，位于清洗装置工作面，还包括清洗液排出口，位于装置主体末端；及与清洗液排出口连通的清洗液回收口，位于清洗装置工作面。还提供一种使用该固定研磨粒抛光垫清洗装置对抛光垫进行清洗的方法。本发明所提供方案可及时对抛光垫表面的微粒子加工副产品进行去除，有效地避免对待加工晶圆工件表面的划伤问题，提高加工的良品率与生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 固定 研磨 抛光 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种固定研磨粒抛光垫清洗装置，包括：清洗装置主体；清洗液进液口，位于装置主体末端；与清洗液进液口连通的清洗液喷射口，位于清洗装置工作面，其特征在于，还包括清洗液排出口，位于装置主体末端；及与清洗液排出口连通的清洗液回收口，位于清洗装置工作面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010613438.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
