[发明专利]化学机械研磨设备及其研磨单元无效
| 申请号： | 201010616677.X | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102528643A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 蒋莉;黎铭琦 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B9/06;B24B57/00;B24B53/017;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于化学机械研磨设备的研磨单元，包括：研磨盘，所述研磨盘用于承载所提供的晶圆；研磨垫手臂，所述研磨垫手臂一端固定，所述研磨垫手臂另一端固定研磨垫，所述研磨垫手臂带动所述研磨垫相对于所提供的晶圆运动；研磨垫，所述研磨垫固定于所述研磨垫手臂，并且可以在研磨垫手臂的带动下，相对于所提供的晶圆运动，研磨垫手臂确定运动期间该研磨垫与所提供的晶圆接触；研浆供应路线，所述研浆供应路线在研磨期间在研磨垫与被研磨晶圆之间供应研浆。本发明还提供相应的化学机械研磨设备。采用本发明有利于实现化学机械研磨设备的小型化，并且有利于节约研浆，提高化学机械研磨设备中研磨垫的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 设备 及其 单元 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械研磨设备的研磨单元，其特征在于，包括：研磨盘，所述研磨盘用于承载所提供的晶圆；研磨垫手臂，所述研磨垫手臂一端固定，所述研磨垫手臂另一端固定研磨垫，所述研磨垫手臂带动所述研磨垫相对于所提供的晶圆运动；研磨垫，所述研磨垫固定于所述研磨垫手臂，并且可以在研磨垫手臂的带动下，相对于所提供的晶圆运动，研磨垫手臂确定运动期间该研磨垫与所提供的晶圆接触；研浆供应路线，所述研浆供应路线在研磨期间在研磨垫与被研磨晶圆之间供应研浆。
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