[发明专利]一种光刻设备环境控制系统有效
| 申请号： | 201010618422.7 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102540750A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 俞芸;王飞;赵滨;杨志斌;聂宏飞;江家玮 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备环境控制系统，包括被控单元，为被控对象；冷却水输送单元，提供冷却水源，并将冷却水输出；温度控制单元，将冷却水输送单元输出的冷却水源进行温度调节后，去控制被控单元的温度；空气输送单元，用于输送空气给被控单元。本发明光刻设备环境控制系统，能够通过制冷和加热方式精确控制被控单元的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 设备 环境 控制系统 | ||
【主权项】：
一种光刻设备环境控制系统，其特征在于：包括被控单元，为被控对象；冷却水输送单元，提供冷却水源，并将冷却水输出；温度控制单元，将冷却水输送单元输出的冷却水源进行温度调节后，去控制被控单元的温度；空气输送单元，用于输送空气给被控单元。
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