[发明专利]太阳能电池及其制作方法无效
申请号: | 201010619183.7 | 申请日: | 2010-12-30 |
公开(公告)号: | CN102569498A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 陈炯;钱锋 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/265;H01L31/04;H01L31/0352 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种太阳能电池的制作方法包括以下步骤:步骤S1、在P型晶片表面形成N+型掺杂层,该N+型掺杂层中具有N++型重掺杂区域;步骤S2、在P型晶片背面形成P型掺杂层;步骤S3、在P型晶片表面和背面形成涂层,该涂层为钝化层和增透膜;步骤S4、在P型晶片表面形成表面电极,该表面电极位于与该N++型重掺杂区域相对应的位置;步骤S5、在P型晶片背面形成背面电极;步骤S6、将P型晶片在700--1100℃烧结,使金属电极元素和晶片共晶复合,其中,所述的P型替换为N型时,N型同时替换为P型。本发明还公开了一种太阳能电池。本发明采用选择性发射极的结构,减少了表面电极和基底之间的接触电阻,提高了太阳能电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池的制作方法,其特征在于,其包括以下步骤:步骤S1、在P型晶片表面中形成N+型掺杂层,该N+型掺杂层中具有N++型重掺杂区域;步骤S2、在P型晶片背面中形成P型掺杂层;步骤S3、在P型晶片表面和背面形成涂层,该涂层为钝化层和增透膜;步骤S4、在P型晶片表面形成表面电极,该表面电极位于与该N++型重掺杂区域相对应的位置;步骤S5、在P型晶片背面形成背面电极;步骤S6、将P型晶片在700‑‑1100℃烧结,使金属电极元素和晶片共晶复合,其中,所述的P型替换为N型时,N型同时替换为P型。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的