[发明专利]一种大视场投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201010619283.X | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102540419A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲;刘国淦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G31；一具有正光焦度的第二透镜组G32；一具有正光焦度的第三透镜组G33；以及一具有正光焦度的第四透镜组G34；上述四个透镜组，构成2x放大倍率设计，半视场不小于100mm，±5nm的I线带宽保证了足够的曝光光强。同时，本发明以相对简单的结构实现所需的微米极的分辨率，还能够校正大视场范围内畸变、场曲、像散、色差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 视场 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G31；一具有正光焦度的第二透镜组G32；一具有正光焦度的第三透镜组G33；以及一具有正光焦度的第四透镜组G34；其中，所述各透镜组满足以下关系：1.8＜|fG32/fG31|＜5.40.57＜|fG33/fG34|＜0.970.19＜|fG33/fG32|＜0.5其中：fG31：所述第一透镜组G31的焦距；fG32：所述第二透镜组G32的焦距；fG33：所述第三透镜组G33的焦距；以及fG34：所述第四透镜组G34的焦距。
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