[发明专利]一种单晶硅棒外圆切割加工方法和装置有效

专利信息
申请号: 201010620832.5 申请日: 2010-12-23
公开(公告)号: CN102554377A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 方峰;赵阳;郑沉;孔祥玉;高朝阳;侯艳柱;叶松芳;刘红艳 申请(专利权)人: 有研半导体材料股份有限公司;国泰半导体材料有限公司
主分类号: B23H7/02 分类号: B23H7/02;B23H7/34
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 郭佩兰
地址: 100088*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种单晶硅棒外圆切割加工方法及装置,属于非接触式电火花加工范畴。切割加工的方法是:以钼丝或钼合金金属细丝作为工作电极,使走丝速度在1-30m/s之间,在切割加工过程中,脉冲发生器的电压脉冲宽度在1-100μs之间且可调;电压在0-200伏特之间,加工工作液的电导率为0.5-50ms/cm。针对重掺杂单晶(电阻率在0.0001-0.10Ω.cm范围)单晶硅棒(锭),锭长100-400cm。采用较高电导率(0.5-50ms/cm)工作液,基于无切削力的电火花放电原理,实现单晶硅棒(锭)外圆切割加工一次成型且晶体表面几乎没有加工应力损伤残留。这种单晶硅棒(锭)外圆切割加工工艺方法可以保留单晶的外壳(重量占单晶的5-15%),这部分材料可以回收。
搜索关键词: 一种 单晶硅 棒外圆 切割 加工 方法 装置
【主权项】:
一种单晶硅棒外圆切割加工方法,其特征是:它包括以下步骤:以钼丝或钼合金金属细丝作为工作电极,使走丝速度在1‑30m/s之间,在切割加工过程中,脉冲发生器的电压脉冲宽度在1‑100μs之间且可调;电压在0‑200伏特之间,加工工作液的电导率为0.5‑50ms/cm。
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