[发明专利]等离子处理装置无效
| 申请号： | 201010621809.8 | 申请日： | 2010-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102110572A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 加藤寿;田村辰也;牛窪繁博;菊地宏之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供利用等离子体对基板进行处理的等离子处理装置，其特征在于，包括：真空容器，在其内部利用上述等离子体对上述基板进行处理；旋转台，设于上述真空容器内，形成用于载置基板的至少1个基板载置区域；旋转机构，使该旋转台旋转；气体供给部，向上述基板载置区域供给等离子体产生用的气体；主等离子体产生部，在与上述基板载置区域的通过区域相对的位置的、上述旋转台的中央部侧和外周侧之间呈棒状延伸地设置，用于向上述气体供给能量而使其等离子化；辅助等离子体产生部，在上述真空容器的周向上相对于该主等离子体产生部分开地设置，用于补偿由该主等离子体产生部产生的等离子体的不足的部分；真空排气部件，将上述真空容器内排成真空。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，利用等离子体对基板进行处理，其特征在于，包括：真空容器，在其内部利用上述等离子体对上述基板进行处理；旋转台，设于上述真空容器内，形成用于载置基板的至少1个基板载置区域；旋转机构，使该旋转台旋转；气体供给部，向上述基板载置区域供给等离子体产生用的气体；主等离子体产生部，在与上述基板载置区域的通过区域相对的位置的、上述旋转台的中央部侧和外周侧之间呈棒状延伸地设置，用于向上述气体供给能量而使其等离子化；辅助等离子体产生部，在上述真空容器的周向上相对于该主等离子体产生部分开地设置，用于补偿由该主等离子体产生部产生的等离子体的不足的部分；真空排气部件，将上述真空容器内排成真空。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010621809.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电梯装置
- 下一篇：基于本地位置信息展示房产全景的系统和方法
