[发明专利]磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶有效
| 申请号： | 201010625168.3 | 申请日： | 2010-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102180822A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 刘骢;C-B·徐 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07D407/12;C07J9/00;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
本发明提供一种磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶。提供了一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物，其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；W”，Y”相互独立地为与W，Y相同基团；n，n’和n”各自相同或不同，并且分别为正整数；U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；R，R’和R”各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；X+是反离子。 |
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| 搜索关键词： | 磺酰光酸 产生 包含 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物：![]()
其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；W”，Y”相互独立地为与W，Y相同基团；n，n’和n”各自相同或不同，并且分别为正整数；U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；R，R’和R”各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；X+是反离子。
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