[发明专利]光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201010625286.4 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102225924A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 李明琦;E·阿恰达;刘骢;J·玛蒂亚;C-B·徐;G·G·巴克利 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07D333/46 | 分类号： | C07D333/46;C07D493/18;C07C309/12;C07C303/32;C07C381/12;C07J31/00;G03F7/004;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 发生 包含 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
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