[实用新型]化学机械抛光浆液环路系统有效
| 申请号： | 201020033143.X | 申请日： | 2010-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN201609869U | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 祝仲凯;桂辉辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/00 | 分类号： | B24B57/00;B08B9/032 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种清洗化学机械抛光浆液环路系统，该系统包括氮气输入口(N)、去离子水输入口(D)、化学机械抛光浆液输入口(S)、与所述化学机械抛光浆液输入口(S)连接而用于输送化学机械抛光浆液的浆液主管路(101)、与所述氮气输入口(N)和去离子水输入口(D)连接而用于输送去离子水和氮气的至少一个清洗用流体主管路(205)、设置在化学机械抛光浆液输入口(S)的至少一个阀门(Vs)和设置在所述氮气输入口(N)和所述去离子水输入口(D)的至少一个阀门。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 浆液 环路 系统 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，该系统包括氮气输入口(N)、去离子水输入口(D)、化学机械抛光浆液输入口(S)、与所述化学机械抛光浆液输入口(S)连接而用于输送化学机械抛光浆液的浆液主管路(101)、与所述氮气输入口(N)和去离子水输入口(D)连接而用于输送去离子水和氮气的至少一个清洗用流体主管路(205)、设置在化学机械抛光浆液输入口(S)的至少一个阀门(Vs)和设置在所述氮气输入口(N)和所述去离子水输入口(D)的至少一个阀门。
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