[实用新型]半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统有效
| 申请号： | 201020123520.9 | 申请日： | 2010-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN201634548U | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 韦相亮;顾晓勇;赵其;张武龙 | 申请（专利权）人： | 安纳社环保工程（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/32;C02F1/20 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 王丽英 |
| 地址： | 江苏省苏州市相*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，它包括彼此之间通过连接管路依次串联相连的研磨废水水箱、膜生物反应器、离子交换系统、清水箱、超滤系统、紫外线消毒系统、一级反渗透系统、脱气装置、二级反渗透系统、中间水箱、连续电去离子系统和产水箱，离子交换系统连接有再生系统，膜生物反应器的清水出水口通过出水管线与清水箱的进水口相连，二级反渗透系统的浓水出口通过第二浓水管路与超滤系统的进水口相连，中间水箱的进水口通过中间水管路与脱气装置的出水口相连。采用本系统可得到电阻高达18MOhm-cm以上的高品质纯水。该套系统整体回收率高达75％，整体投资成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 行业 研磨 废水 超纯水 处理 系统 | ||
【主权项】：
半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，其特征在于：它包括彼此之间通过连接管路依次串联相连的研磨废水水箱、膜生物反应器系统、离子交换系统、清水箱、超滤系统、紫外线消毒系统、一级反渗透系统、脱气装置、二级反渗透系统、中间水箱、连续电去离子系统和产水箱，膜生物反应器的浓水出口通过第一浓水管路与污泥处理系统的浓水进水口相连，污泥处理系统的水出口通过出水管与研磨废水水箱的进水口相连并且其污泥排出口与污泥管线相连，所述的离子交换系统连接有再生系统，在所述的紫外线消毒系统和一级反渗透系统之间的连接管路上通过加药管线连接有加药系统并装有第一反渗透进水泵，在所述的脱气装置和二级反渗透系统之间的连接管路上装有第二反渗透进水泵，二级反渗透系统的浓水出口通过第二浓水管路与超滤系统的进水口相连，中间水箱的进水口通过中间水管路与脱气装置的出水口相连，在所述的中间水箱和连续电去离子系统之间的连接管路上装有连续电去离子系统进水高压泵。
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